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T7耐高温高产量RNA合成试剂盒
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产品简介
T7 耐高温高产量 RNA 合成试剂盒可在较高温度 50℃下进行体外转录，以含有 T7 启动子序列的线性双链 DNA 为模板、NTPs 为底物对启动子下游 DNA 序列进行转录，获得 RNA 产物。T7 耐高温高产量 RNA 合成试剂盒也能以修饰核苷为底物获得生物素、染料或放射性标记的RNA，以帽子结构或帽子类似结构为底物获得加帽的 RNA。高温反应有助于减少 dsRNA 副产物的形成，减少转录产物 RNA 的免疫原性。
本试剂盒内含常用的修饰核苷 N1-Me-pUTP供转录需求选择使用。
性能优势
本试剂盒一个反应能够转录获得 150～200μg 的 RNA 产物，并可放大生产毫克级别的 RNA。
下游应用
转录合成的 RNA 可用于 RNA 结构和功能研究、RNase 保护、探针杂交、anti-sense RNA 和RNAi 等应用，也可通过加帽加尾产生mRNA，用于体外翻译、转染等下游应用。
运输与保存
≤0℃运输；-25℃～-15℃条件下可保存一年。
耐热性强：
GSPure®T7 Thermostable and High Yield RNA Synthesis Kit在50℃下仍能保持活性并高效转录。
转录长度范围广：
GSPure®T7 Thermostable and High Yield RNA Synthesis Kit在合成300~6000nt长度的转录本时保持优良的转录效果。
转录产量高：
GSPure®T7 Thermostable and High Yield RNA Synthesis Kit的30μL反应体系中，1μg DNA模板投入可合成250~300μg RNA。
1、转录产物产量低或转录失败
①可能是模板自身原因，建议重新纯化或线性化模板；
②重新确认模板定量及完整性；
③加大模板投入量；
2、产物电泳拖尾现象
①实验操作过程被 RNase 污染；②DNA 模板被 RNase 污染；
3、RNA 产物片段与预期不符
①质粒模板没有完全线性化；
②RNA 存在未完全变性的二级结构，建议使用变性胶检测 RNA 产物；
③模板 GC 含量高，可能形成高级结构；
④RNase 污染；
⑤模板序列中包含类似 T7 RNA 聚合酶终止序列，导致转录提前终止，建议尝试不同的 RNA聚合酶。
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